產品可以應用于電子束蒸發,熱蒸發,磁控濺射等設備中,用來制備太陽能電池,光電探測器,LED,激光器,場效應晶體管等各種器件電極及各種薄膜材料圖形設計。
我們已與北京大學,清華大學,北京大學,華東理工大學,西南大學,成都科技大學,西安交通大學,汕頭大學,河北工業大學,哈爾濱工業大學,中科院長春化學所,中科院蘇州納米所,中科院深圳先進院,蘭州物化的,合肥物質所,武漢大學,華中科技大學,中科院昆明植物研究所,北京航空航天大學,山東大學,浙江大學,吉林大學,華南理工,中山大學,東南大學,蘇州大學,太原理工大學等國內眾多的高校和科研院所以及高技術企業形成了長期合作關系,積累了豐富的設計和制備經驗,具備諸多優勢。
在材質的選取方面,我們選用高韌性的SUS304 H不銹鋼材料,這樣做出來的掩膜版不但精度高,而且表面光滑,產品不易受彎折而變形,經久耐用,同時還能夠讓掩膜版板與器件保持很緊密的貼合,減少陰影效果。
我們所采用的不銹鋼厚度包括0.03mm,0.05mm,0.06mm,0.08mm到1 mm的各種尺寸,采用較薄的不銹鋼制備出來的掩膜版所產生的陰影效果會更少,擾度更可控。
本公司承接各種圖案定制,客戶最好能提供包含尺寸的CAD版設計圖。如果畫圖實在有困難,我們可以根據客戶描述來繪制,同時我們還能對客戶的掩膜版設計提供一些建議。
下面先舉幾個掩膜版的實例,后面再解釋幾個掩膜版的設計技巧。
上圖為各種圖形的實例,實際上可做的圖形圖案種類更多
如下圖所示是各種柵線電極圖案及其對應的設計圖,圖中掩膜版尺寸為9cm*9cm,柵線最小尺寸為0.1mm。
上圖為設計的掩膜版的尺寸圖,其中對縫隙的要求比較高,不可以在縫隙中產品毛剌,凸點,缺口,否則會對掩模圖形產生擾度
下面圖為對應的圖紙加的實物圖片
以下為各種的掩模板圖紙和實物相應的對照圖,即用我們的蝕刻工藝,可以最大程度的節省成本,完成掩模板的制作。
以上為掩膜版實物對比圖二,下面增加另一種圖案對比
下圖是掩膜版的側面圖,所用的不銹鋼厚度為0.1mm。
如圖所示,客戶可以設計,做四種不銹鋼片,其中:1、右下角的為帶電極圖案的掩膜版。2、右上角為固定器件的方格板。
我們將方格板用螺絲固定到掩膜版上面就可以防止電池片的左右移動。方格板的厚度可以根據器件的厚度來定制,如圖中所示的方格板就是可以放入厚度為0.5mm,邊長為1*1cm的電池片共16片。
客戶還可以一次性設計幾個不同厚度的方格板,這樣自己就可以通過將不同厚度的方格板疊合在一起形成任意組合的厚度,以便于用于不同厚度器件的電極蒸鍍。
如果想進一步固定電池,則可以設計一個如左下角一樣的光板覆蓋到方格板上面,這樣一方面能完全將器件固定,在一些需要將掩膜版豎放或反放的設備中可以讓器件不掉或松動;另一方面還能在蒸鍍電極時防止器件背面被金屬蒸汽污染。
另外,由于掩膜版比較薄,若面積過大可能會發生一定的彎曲,客戶還可以設計如左上角所示的掩膜版固定片壓住下面的掩膜版,或者通過設計更加密集的螺絲孔,使掩膜版更加平整穩固。
上圖給出了另外一種疊層型掩膜版的例子。這是用于制備有機太陽能電池中的條狀電極設計的,照片中的第一排放置了兩片ITO玻璃片。值得指出的是,為便于用鑷子等工具對器件進去夾取,客戶可以在固定用的方格板上設計如圖所示的半圓形缺口。
上面的掩模板設計圖如下,其中用于固定的方格板厚度為1mm,而掩模板的厚度為0.2mm。
由于篇幅有限,上面只列舉了幾個簡單的例子,大家可以和我們聯系索要更多的圖案實例和設計技巧。后期我們將制作跟多掩膜版設計技巧和電極蒸鍍技巧,同時歡迎訪問我們的頁面進行更多了解:http://www.fzvh.cn
下圖為組合上下片后的放大效果
在IC加工過程中,需要使用中間掩膜版和光掩膜版。我們定義中間掩模版是為整個基片曝光而必須分步和重復的包含圖像的工具。通常圖像的尺寸被放大到基片上圖像的2倍到20倍,但在一些情況下也用相等的圖像。光掩模版被定義為在一次曝光中能把圖形轉移到整個硅片中(或另一張光掩模版上)的工具。中間掩模版有兩種應用:1)把圖形復印到工作掩模版上。2)在分步重復對準儀中把圖像直接轉移到硅片上。在1X硅片步進光刻機中,掩模版上的圖形與投影到硅片上圖形一樣大;在縮小步進光刻機中,掩模版上的圖形是放大的真實器件圖像。
模版
得到圖形。掩模版制作商業化的說法是有意義的,而且在商業領域和掩模版
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